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Mya 4自動化反應工作(zuò)站
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Mya 4是一個具有四個反應位點的自(zì)動化工(gōng)作(zuò)站,為您的實驗(yàn)提供安全精確地加熱、實時冷卻、軟件控製和數據記錄功能,可(kě)用於進行24小時/7天無人值守的實驗。
產品詳情

一台具備(bèi)4個操(cāo)作位點、提供安全、準(zhǔn)確地加熱、實時冷卻、軟件控製和數據記錄的24小時/7天(tiān)無人值守的自動化化學儀器。


一台儀器,無限可能

4個單獨操作位點磁力&機械攪拌2ml~400ml

兼具加熱、冷卻功(gōng)能

每個位點可以單獨操作

標配磁力攪拌功能

可選配強勁的Mya頂置式機械攪拌(bàn)器
兼容**的反(fǎn)應(yīng)瓶樣(yàng)式(shì)和體積(jī)

自動化(huà)&數據記錄-30~180℃控製(zhì)第3方設備

軟件控製

進行24小(xiǎo)時/7天無人值守的化學實驗(yàn)

模(mó)塊控(kòng)溫、樣品(pǐn)控溫
相鄰(lín)位點間(jiān)溫差可達200℃

電腦版(bǎn)軟件可控製:注射泵、蠕動泵

pH計、真空泵等多種第3方設備


靈活多(duō)用

更安全、更清潔、更(gèng)環保、更高效

4個單獨操作位點,標配加熱、實(shí)時冷卻功(gōng)能

緊湊型(xíng)設計,適用於多種實驗應用

兼容多(duō)種多樣尺寸和形狀的反應容器

程序化(huà)控(kòng)製(zhì)您的實驗,實時自(zì)動記錄(lù)實驗數據

確地溫度控製

磁(cí)力(lì)攪拌,機械攪拌

取代(dài)低效、雜亂和不安(ān)全的油浴、幹冰浴

更加節省(shěng)實驗室空間(jiān)

兼容第3方(fāng)設備:天平(píng)、泵和pH計等

軟件控製,提高安全性,減(jiǎn)少人為錯誤

24小時/7天無(wú)人值(zhí)守運行,提高效率(lǜ)


主要(yào)特點(diǎn)

歧管型 或 回流型 機頭


  • 水冷式

  • 內置(zhì)氣體回路,可用於填充惰性(xìng)氣體

  • 歧管型機頭(tóu):

    將冷卻水分配至每個單獨的冷凝管

    標配截止閥,防止倒流

  • 回流型機頭:

    直接對回流管內的蒸汽進行冷凝

  • 無需外接冷凝管,便於使用


磁力攪拌 或 機械攪拌


  • 標配磁(cí)力攪拌功能(néng):100~1000rpm

  • 可選配Mya頂置式機械攪(jiǎo)拌器

  • 強勁(jìn)地攪拌

  • 轉速範圍:100~1000rpm

  • 無需工具即(jí)可安裝

  • 每個位(wèi)點的轉速單獨控製

  • 相鄰位點可(kě)分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響



可選多種(zhǒng)多樣尺寸和形狀的反應容器


從2ml~400ml,樣品瓶、試(shì)管、圓底燒瓶和過程釜體


  • 樣品(pǐn)瓶和試管:2ml~20ml

  • 圓底燒(shāo)瓶:25~250ml

  • 過程釜體:50~400ml

  • 多(duō)口釜蓋:3口或5口

  • 其他配件


Mya 4控製選項


24小時/7天(tiān)無人(rén)值守地進行您的實驗,可(kě)選的操(cāo)作係統:

  • 觸摸控(kòng)製麵板:儀器(qì)標配

  • 選的PC控製軟件:用於控製第3方(fāng)設備




根據您的需求配置Mya 4



您(nín)可以(yǐ)靈活(huó)地配置Mya 4的各類配件,用以(yǐ)適配您的各(gè)類實驗(yàn)


  • 選擇歧管型或回流型機頭(tóu),或者不使用機頭

  • 選擇(zé)反應容器的形狀和尺寸

  • 選擇跟反應容器適配的插件

  • 選擇多口釜蓋(gài)或者回流管

  • 選擇頂置式機械攪拌器、攪拌(bàn)槳或者磁(cí)力攪拌子

  • 選擇其他配件(溫度探針、玻璃配件等)

  • 選擇PC控製軟(ruǎn)件




工(gōng)藝套裝

小試套裝(zhuāng)

其他配置

配置(zhì):歧管式機頭

過程釜體

配(pèi)置:回流式機頭

圓底燒(shāo)瓶

配置:

樣品瓶和(hé)試管


靈活(huó)多用,適用於從小試研發到工(gōng)藝開發的眾(zhòng)多實驗應用

  • 工藝開發

  • DOE實(shí)驗

  • 實驗放大

  • 結晶研(yán)究

  • 晶型篩選

  • 先導物研究

  • 平行實驗

  • 實(shí)驗優化

  • 溶(róng)劑、催化劑篩選

  • 路線研究(jiū)


小結
4個單獨操作(zuò)位點

——可同時使用1,2,3或4個(gè)位點

——平(píng)行操作4個位點,或由多個使(shǐ)用者分別單獨操(cāo)

準確地溫度控製

——溫度控製範(fàn)圍:-30~180℃

——相鄰位(wèi)點間溫差可達200℃

——每個位點的溫度(dù)單獨控製

——可選擇控製模塊(kuài)溫度或樣品溫度

使用自來水或冷水機

——Mya 4使用(yòng)先進的半導體製冷技術,可快速製冷至-30℃

——半導體芯片需要(yào)自來水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續製冷(lěng)

冷(lěng)卻源 自來水(15℃) 冷水機(5℃)

***模塊(kuài)溫度 -25℃ -35℃

***樣品(pǐn)溫度 -20℃ -25℃

磁力攪(jiǎo)拌或機械攪拌(bàn)

——標配磁力攪拌功能,轉速範(fàn)圍:100~1000rpm

——可選配Mya頂置式機械攪拌器,轉速(sù)範圍:100~1000rpm

——每個位點的轉速(sù)單獨控製

——相鄰位點可分(fèn)別使用磁力攪拌(bàn)或機(jī)械攪拌,互不影響(xiǎng)




Mya 4自動化(huà)反應工作站
Mya 4自動化反應工作站
Mya 4自動化反應工作站
Mya 4自動化反應工(gōng)作(zuò)站
Mya 4自(zì)動化反應工作站

Mya 4自動化(huà)反應工(gōng)作站

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Mya 4是一(yī)個具有(yǒu)四個反應位點的自動化工作站,為您的(de)實驗提供安全精(jīng)確地加熱(rè)、實時冷卻、軟件控製和數據記錄功能,可用於(yú)進行24小時/7天無人值守的實驗。
產品詳(xiáng)情

一台具備4個操作位點、提供安全、準確地加熱、實(shí)時冷卻、軟件控(kòng)製和數據記錄(lù)的(de)24小時(shí)/7天無人值守的自(zì)動化(huà)化學儀器。


一台儀器,無限(xiàn)可能

4個單獨操(cāo)作位點磁力&機械攪拌2ml~400ml

兼具加熱、冷卻功能

每個位點可以單獨操作

標配磁力攪拌功能

可選配強勁的Mya頂置(zhì)式機械攪拌器
兼容**的反應瓶樣式(shì)和(hé)體積

自(zì)動化&數據記錄-30~180℃控製第3方設備

軟件控製

進行24小時/7天無人值守的化(huà)學實驗

模塊控溫、樣品控溫
相鄰位點間溫差(chà)可達200℃

電腦版軟(ruǎn)件可(kě)控製:注射泵、蠕動泵

pH計、真空泵等多種第3方設備


靈活多用

更安全、更清潔、更環保、更高效

4個(gè)單獨(dú)操作位點,標配加熱、實時冷卻功(gōng)能(néng)

緊湊型設計,適用於多(duō)種實驗應用

兼容多(duō)種(zhǒng)多樣(yàng)尺寸和形狀(zhuàng)的反應容(róng)器

程(chéng)序化控製您的實驗,實時自動記錄實驗數據

確地溫度控製

磁力攪拌,機械攪拌

取代低效、雜亂和不安全的油浴、幹冰浴

更加節省實驗室空間

兼容第3方設備:天平、泵和pH計等

軟件控製,提(tí)高安全性,減少人為錯誤

24小時/7天無人值守運行,提高效率


主要特點

歧管型 或 回流型 機頭


  • 水冷式(shì)

  • 內置氣體回路,可用於填充惰性氣體(tǐ)

  • 歧管型機頭:

    將冷卻水分配(pèi)至每個單獨(dú)的冷凝管

    標配截止閥,防止倒流

  • 回流型機頭:

    直接對回流管(guǎn)內的(de)蒸汽進行冷凝

  • 無需外接冷凝管,便於使用


磁力攪拌 或 機械攪拌


  • 標配磁力攪拌功能:100~1000rpm

  • 可選配Mya頂置式機械攪拌器

  • 強勁(jìn)地攪拌

  • 轉速範圍:100~1000rpm

  • 無需工具即可安裝

  • 每個位點的轉速單獨控製

  • 相鄰位(wèi)點可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響



可選多種多樣尺寸和形狀的反應容器


從2ml~400ml,樣品瓶、試管(guǎn)、圓底燒瓶和過程釜體


  • 樣品瓶和試管:2ml~20ml

  • 圓底燒瓶:25~250ml

  • 過程釜體:50~400ml

  • 多口(kǒu)釜蓋:3口(kǒu)或5口

  • 其他配件


Mya 4控製選項


24小時/7天無人值守(shǒu)地進行您的實驗,可選的操作係統:

  • 觸(chù)摸控製麵板:儀器(qì)標配

  • 選的PC控製軟件:用(yòng)於控製第3方設(shè)備




根據您的需求配置Mya 4



您可以靈活地配置Mya 4的各類配件,用以(yǐ)適配(pèi)您的各類實驗


  • 選擇歧管型或回流型機頭,或者不使用機頭

  • 選(xuǎn)擇反應容器的形狀和尺寸

  • 選擇跟反應(yīng)容器(qì)適配的插件

  • 選擇多口釜(fǔ)蓋或者回(huí)流管

  • 選擇頂置式機械攪拌器、攪(jiǎo)拌槳或(huò)者磁力攪拌子

  • 選擇其他配件(溫度探針、玻(bō)璃配件(jiàn)等)

  • 選擇(zé)PC控(kòng)製軟件




工藝套裝

小試套裝

其他配置

配置:歧管式機頭(tóu)

過程釜(fǔ)體

配置:回流式機頭

圓底燒瓶(píng)

配(pèi)置:

樣品瓶和試管


靈活多用,適用於從小試研發到(dào)工藝開發的眾多實驗應用

  • 工藝開(kāi)發

  • DOE實驗

  • 實驗放大

  • 結晶研(yán)究

  • 晶型篩選

  • 先導物(wù)研究

  • 平行實驗

  • 實驗優化

  • 溶劑、催化劑篩選(xuǎn)

  • 路線研究


小結
4個單獨操作位點

——可同時使用1,2,3或4個位點

——平行(háng)操作4個位點,或由多個使用者分別單獨操

準確地溫度控製

——溫度控製(zhì)範圍:-30~180℃

——相(xiàng)鄰位點(diǎn)間(jiān)溫差可達200℃

——每個位(wèi)點的溫度單獨控製

——可選擇(zé)控製(zhì)模(mó)塊(kuài)溫度或樣品溫度(dù)

使用自來水或冷水機

——Mya 4使(shǐ)用先進的半導體製冷技(jì)術,可快速製冷(lěng)至-30℃

——半導體芯片需要自來(lái)水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續製(zhì)冷

冷卻源 自來水(15℃) 冷水(shuǐ)機(5℃)

***模塊溫度 -25℃ -35℃

***樣品溫度 -20℃ -25℃

磁力攪拌或機(jī)械攪拌

——標配磁力攪拌功能,轉速範圍:100~1000rpm

——可選配(pèi)Mya頂置式機械攪拌器,轉速範圍:100~1000rpm

——每個位點的轉速單獨控製

——相鄰位點可分別使用磁力攪拌或機械(xiè)攪拌,互不影響




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